電鍍廠 塑膠 金屬處理 北部

真空鍍膜是一種在充滿空氣或惰性氣體的真空室中進行氣相鍍膜的技術。目前，三種主要的真空鍍膜方法具有無污染、無氫脆、適用於多種基材、工藝相對簡單等諸多特點。

在過去的兩三年裡，電子設備正朝著小型化、高可靠性和超集成化的方向發展。需要製備各種特殊的功能性塗層來促進物理氣相沉積（簡稱PVD，又稱真空鍍）。化學氣相沉積（簡稱CVD，又稱氣相鍍）的迅速發展和廣泛應用。資料顯示，美國為滿足航天工業大件鍍膜材料的需求，建造了高36m、寬30m的離子鍍室。

真空電鍍附著力強，鍍層不易脫落；衍射性好，鍍層厚度均勻；塗層緻密，針孔氣泡少；電鍍前處理容易，工藝簡單；材料使用無污染。它可用於在金屬或非金屬表面上電鍍元素、合金或化合物。已廣泛應用於機械、航天、航天、電子、輕工、光學等工業部門，製備耐磨、耐腐蝕、耐熱、導電、磁性等。光學、裝飾、潤滑、壓電和超導等各種塗層。

目前，隨著真空鍍膜設備的不斷改進、規模化、連續化，再加上鍍膜技術的發展，可以獲得粘合強度好、耐磨性強、亮度高的裝飾膜層。真空電鍍已進入工業化生產階段，成為1980年代以來世界競相爭奪的先進技術之一。